目前最先進的EUV（極紫外）刻技，已經能夠實現5奈米甚至更小尺寸的晶片製造，而這背後需要極其複雜的數學建模和計算學支援。
對於正在全力突破晶片“卡脖子”技的華國來說，刻領域的每一個進步都牽著無數人的心。
華國科研團隊每年都會派出頂尖學者參加WCLC，學習流最新果，同時也展示自己的研究進展。
周宇軒對電子產品特別關注，對這種世界前沿的會議更是不可能落下。
“這個日本人佐藤健一郎。”
周宇軒指著螢幕上的演講者，聲音裡滿是厭惡。
“他是京都大學數學研究所教授，日本學振興會特別研究員。還是國際學工程學會最高榮譽獲得者，長期研究刻數學理論，在國際上有一定的話語權。”
螢幕上，佐藤健一郎的演講已接近尾聲。
他推了推眼鏡，切換到最後一張幻燈片，上面展示著一套結構優、符號繁複的數學框架。
“這就是他這次提出的‘佐藤正則化框架’。”
周宇軒低聲說，他顯然對這個領域已經做過研究了。
“一套專門針對EUV刻誤差修正的數學公式系。他聲稱用這個框架，能夠完解決EUV刻中的各種像差和失真問題，讓5奈米晶片的良率突破95%。”
良率也就是奈米晶片生產的功率。
要知道，目前最先進的生產線，5奈米晶片的良率也就在80%左右徘徊。
每提高一個百分點，都意味著數以億計的本節約。
95%的良率，如果真能做到，這將是晶片製造業的革命突破。
之前日本就發表過相關的報道，已經將佐藤健一郎捧上了天。
影片切到了日的報道畫面，標題赫然寫著“晶片數學之神——佐藤教授的革命突破”。
“吹吧，就使勁吹。”
林思源撇撇，“日本人最喜歡搞這種個人崇拜了。”
不一會兒，影片又切回了會議現場。
佐藤健一郎的演講結束了，他站在臺上，等待掌聲平息。
然後，他做了一個讓全場華國代表臉驟變的舉。
他微微前傾，靠近麥克風，用清晰但帶著明顯日本口音的中文說道：
“最後，我想對華國的朋友們說一句。”
會場突然安靜下來。
所有華國代表團的員都抬起了頭，盯著臺上那個人。
佐藤健一郎的臉上出一個看似禮貌、實則滿是輕蔑的微笑。
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