14號，人節。
介於昨天晚上曲某人與佐佐木元聊的非常投機，還達了許多默契。原本參觀NEC丸之總部大樓的計劃，變了參觀NEC中央研究所。
從名字就能看出來，“中央研究所”是NEC旗下一系列研究機構中規模最大的，也是立最早的。
49年創立，從最初的材料、件，逐漸拓展到計算機系統和。
75年從東京遷至神奈川縣川崎市，又立了“未來技研究室”，專注於十到三十年後的顛覆技。
（小日子的“縣”相當於咱們的省，“市”相當於地級市或縣級市。從面積上看，“縣”相當於市，“市”相當於縣）
76年開發出小日子首款量產的商用採用 7.5 微米工藝，整合 2500 個電晶的4 位微理μCO4。
77年開發出“槽電容” 結構，使儲存度提升4倍，功研製64K DRA
78年開發電子束刻技，將積電路線寬從 5 微米減至 1 微米，突破了當時的技極限。
曲卓這次參觀的重點，就是電子束刻技。
不但“”到了NEC自己的獨立專案，還“”到了尼康和IB過專利共，合作開發的NCR-EB1A原型機?。
圖片上是IB尼康合作，在1980年推出的 EL-3 電子束刻
（NCR-EB1A的圖片沒找著，應該跟同源同代的EL-3差不太多）
這玩意支援?1000萬畫素並行投，將線寬推進到了0.1-0.5微米（100-500奈米）。?
而時下老 GCA 最先進的DSW4800步進式刻機，最小線寬是0.5到1微米。
當然了，電子束刻機雖然度更高，但和學刻機是沒法比的。
NCR-EB1A一小時只能理幾平方釐米的晶圓，DSW4800每小時可以理接近兩百片晶圓。
普通的學掩模本也就大幾千到一萬多元，電子束用的氮化矽掩模本在十五到二十萬元。
所以，電子束刻機只能用來做研發、小批次生產和製作確模板，大規模製造還是得指學刻機。
可但是，這玩意雖然對量產來說沒有任何意義，但對曲某人有意義呀！
直接把他“購買力”從386推進到了奔騰四，加上倍頻技，將主頻從直接拉到了G級……
小日鬼兒之所以大方的讓曲卓看他們“寶貝”，當然不是為了炫耀，或者證明什麼。
電子束刻機有一項核心需求——理 ?TB級版圖資料?。
而理 ?TB級版圖資料?，需要依賴高效能計算系統進行圖形分割和拼接。
之前港島的技釋出會上，long系列計算機在顯示增強卡的加持下，表現出了強大的影像理能力，正是電子束刻機所需要的。
佐佐木元當時就在現場，憑直覺判斷，如果有long計算機，NCR-EB1A的理速度至提高十倍。
從每小時幾平方釐米，提高到四到五片晶圓。
雖然依舊遠遠不及學刻機，但起碼小批次生產速度提上去了。完全可以勝任一些裝置的高製程特種晶片加工。
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