其他專家固然沒有辦法從專業的角度聽懂其中的難度，但是憑藉直覺就能明白這有多難了。
用一個擁有近乎無窮解空間的、典型的NP-hard問題，這些形容詞和最後的名詞，聽起來就覺得困難。
近乎無窮解，在數學知識大約等於數學系大一大二學生的工業專家們看來，和近乎無法求解沒有區別。
坐在魏哲邊上的專家，看他的臉也能看出端倪，看魏哲一副驚呆的樣子，就知道林燃又做了什麼驚天地的結果出來。
梁孟松舉手，林燃點了點頭：“梁工，你說。”
“林總，”梁孟松的語氣很沉重，“您從演算法層面為我們提供瞭解決方案，現在我們從理論上能做到。
但是在現實世界中要到，我們需要有度足夠高的模板，有了這樣的模板，我們才能用NIL刻機去印所謂的超構鏡，才能擁有傳統路線刻機所需的鏡頭。
我解釋一下，我們要製造的，是帶有5奈米級別結構的超構鏡母版模板。
而要製造這個母版，我們需要一臺電子束寫機。”
“這東西，就像一支筆。”梁孟松努力用最簡單的語言解釋，“刻機，像一臺巨大的印刷機，可以把模板上的圖案，一秒鐘影印幾十次。
而電子束寫機，就是那支用來製作印刷母版的、最原始的筆。
你的筆有多細，決定了你的母版有多細。
而我們，我們國產的、最先進的電子束寫機，能穩定刻畫的最小線寬，是65奈米。
用65奈米的筆，去雕刻5奈米的圖案，這是不可能的。”
多電子束寫機是一種用於高度圖案轉移的先進半導制造裝置，過使用多個電子束同時在晶圓上寫圖案。
梁孟松說的更常見一點的名詞掩版，過掩版在矽片上印上圖案，掩版的度決定了矽片上積電路的度。
用來製作掩版的機就多電子束寫機，它一次只能製作一塊掩版，適用於小批次、高複雜的圖案製造需求。
總結來說，沒有最先進的電子束寫機，就無法制造出用於生產最先進晶片的掩版。
它是整個半導制造產業鏈的“源頭”，其戰略重要，毫不亞於EUV刻機本。
全球最先進的、用於EUV級別的多電子束掩寫機，其市場被奧地利的IMSNanofabrication公司，現已被英特爾絕對控。
另一家霓虹公司NuFlareTechnology也在研發，但市場份額和技應用廣度上都有差距，這是東芝的子公司。
國的申海微電子旗下也有子公司在負責研發，但度是90nm到65nm之間。
無論是哪個技路線的刻機，都需要有掩版，在母版上面去印刷。
會議室裡，剛剛因數學突破而燃起的樂觀氣氛，瞬間被澆滅了。
大家都是業人士，很清楚梁孟松說的是事實。
沒有最頂尖的筆，再完的設計圖也只是一張廢紙。
林燃說：“這不是問題，我們雖然沒有最先進的筆，但是有次一級的筆。”
林燃看向臺下的楊德人說道：“楊院士，你來說說吧。”
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