楚千瀾抬眼，目從電腦螢幕上的輿資料移開，落在王世傑手中的報告上：“直接說核心資料和關鍵進展。”
王世傑點了點頭，翻開報告，“2010年深藍半導全年營收28億，淨利潤3.2億。因為對外投資以及科研投巨大，虧損總額度達到72億。
核心業務中，45奈米晶片量產良率穩定在92%，主要供給繁星科技使用；
過多重曝技生產的其他45奈米晶片，已向大江無人機、恆川機械等關聯企業小批次供貨，良率保持在89%以上；
65奈米刻機復刻專案已完90%核心部件國產化，僅剩學鏡頭和伺服電機兩個模組待突破；
45奈米放大版刻產線研發按節點推進，源系統已完實驗室驗證，主結構設計進收尾階段。”
他頓了頓，補充道：“材料端，華宇特氣的9種核心特種氣已實現穩定供應，良率均達99.5%以上；
先鋒晶圓的8英寸矽片良率提升至88%，完全滿足45奈米晶片生產需求；
晨化工的193n刻膠量產良率突破93%，本較進口產品降低30%，已實現全面替代。
掩模版與拋墊已經完研發，接下來就是找工廠生產。另外還有三種材料即將完研發。到年底，深藍半導所需要的各種材料，都可以在國自給自足！”
如今的深藍半導，雖然原材料充足，但那都是楚千瀾下達命令，提前囤積而來，用一點一點。
而隨著各種半導原材料技投生產，晶片生產所需材料也會逐步得到解決。
楚千瀾指尖輕叩桌面，目落在“材料自給自足”的標註上，眸漸亮：“年底實現全材料國產化，這個進度超出預期。但不能掉以輕心，要確保每種材料的穩定和一致，避免批次生產時出現良率波。”
王世傑迅速點頭：“楚總放心，我們已經建立材料檢機制，每批次原材料都會經過三檢測，關鍵引數誤差控制在規範標準之。
而且華宇特氣、先鋒晶圓等企業都已啟擴產計劃，明年原材料供應能力還能提升50%。”
他頓了頓，翻到報告下一頁，語氣帶著幾分振：“還有個好訊息，45奈米放大版刻產線的源系統，過媧系統最佳化後，功率穩定提升20%，主結構設計預計4月份完，最晚年底前就能實現整機除錯。”
“試產不能急於求。”楚千瀾抬手打斷，“放大版刻機是突破專利壁壘的關鍵，每一個環節都要反覆驗證。當然，專利申請也不能疏忽。”
王世傑重重點頭：“明白！我們已同步啟專利佈局，圍繞放大版刻產線的源最佳化、結構設計申請了21項概念專利。在接下來的研發當中，還會將新發現的專利分批申請。
另外，張北團隊在拆解65奈米刻機時，發現了三項可反向最佳化的技點，已融放大版刻產線設計。”
楚千瀾目掃過報告中“反向最佳化技”的標註：“很好，有先進的經驗，我們自然要吸取，但要注意，不要使用有專利保護的技。對了，放大版刻產線的研發，有什麼困難嗎？”
王世傑臉上的振稍斂，語氣多了幾分凝重：“主要難點在學鏡頭的國產化適配。
放大版產線的路設計與原版65奈米刻機不同，國廠商生產的鏡頭在大視場下的像畸變率始終控制在0.008微米，距離我們要求的0.005微米還有差距。”
他頓了頓，補充道：“張北團隊嘗試用媧系統推演最佳化鏡片鍍工藝，目前已將畸變率降至0.006微米，還在持續除錯，但短期恐難突破臨界值。
另外，伺服電機的高速響應度也有待提升，高速運轉時的扭矩波會影響工作臺定位，進而影響刻度。”
楚千瀾指尖輕叩桌面，眸沉靜：“學鏡頭方面，讓恆川機械聯合國頂尖學廠商組建專項攻堅組，媧系統會同步提供模擬資料支援，重點最佳化鍍層數和材質配比；
伺服電機可以對接龍科院，他們之前協調過軍工級電機廠商，或許能提供技支援。”
他抬眼看向王世傑，語氣帶著不容置疑的堅定：“這兩個核心模組是放大版產線的命脈，必須在年底前攻克。
哪怕投額外資金，也要確保試產時的度達標，不能讓專利繞開的努力白費。”
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