《四合院:我是雨水表哥》第596章 星河再啟(2)

作者:做夢都不放過·16天前

陳教授走上講臺,手裡拿著一個厚厚的資料夾。

“理論組,主要做三件事。第一,崑崙組合語言的設計,目前已經訂了框架。第二,漢字編碼設計,目前第一版3500個漢字已完編碼設計。第三,星河計劃各相關微程式、資料庫等設計,這是長期工程,隨需而定。”

他在黑板上寫了幾行字。

“崑崙組合語言,旨在統一助記符、定址方式、指令格式等,為星河計劃的微程式奠定基礎,我們將聯合全國12家單位,用兩年時間,進行此項工作。一旦設計完,星河計劃的任何一臺機,不管是大到崑崙系列計算機,還是小到工業計算機,都用同一套匯編語言。工程師寫一套程式碼,能在所有崑崙機上跑。”

他合上資料夾。

“組合語言定稿之後,該項工作的重心將轉向兩件事:第一,編譯的研製;第二,作業系統的移植和最佳化。這兩件事,都需要各單位的配合。”

……

陳教授彙報完,臺下有人舉手提問,陳教授一一回答。

接著是材料組。

半導所的王守仁走上講臺,手裡拿著一塊矽片樣本,在燈下舉起來,讓臺下的人看。

矽片表面得像鏡子,在燈下泛著銀灰澤。

“材料組的主要工作,是提高高純度矽單晶的批次生產能力。目前,2微米工藝用的矽片,純度穩定在7N以上,直徑3英寸,厚度400微米,翹曲度小於10微米。”

他把晶片放在桌上,翻開筆記本。

“下一步的目標,是8N純度和4英寸直徑。這是亞微米工藝的基礎材料要求,我們已經啟預研。難點有兩個,一是區熔工藝的均勻,二是切片加工的表面損傷控制。預計明年年底之前,拿出合格樣品。”

工藝組,6305廠的陳遠站起來,手裡拿著一沓厚厚的報告。

“目前,2微米工藝已經全線貫通,良率穩定在65%以上。下一步的任務,是向1微米、0.8微米、0.5微米推進。”

他在黑板上畫了一張技路線圖。

“我們的計劃是三步走。第一步,明年年底之前,攻克1微米工藝。關鍵裝置是新一代刻機,工作臺度要從0.1微米提升到0.05微米,長所已經在做了。第二步,後年年底之前,攻克0.8微米工藝。這一步的關鍵是刻膠和掩模版的度,上海廠和中科院化學所聯合攻關。第三步,大後年年底之前,攻克0.5微米工藝。這一步需要電子束刻機,我們已經和真空所、哈工大啟了聯合預研。”

他在每一條後面都標註了時間節點和責任人,條理清晰,一目瞭然。

刻組,長所的王高工走上講臺,一疊紙夾在腋下。

刻機的事,我來說幾句。”

他的聲音不大,但每個字都很有力。

“2微米刻機GCA-301CGS,已經技穩定量產。1微米刻機,工作臺度需要0.05微米,曝波長365奈米,鏡數值孔徑0.4,這些指標都已經在實驗室裡跑通了。現在卡在批次製造的良率上,預計今年年底之前解決。”

他在黑板上畫了一個簡圖。

“下一步,是0.8微米刻機。這一步度很大,需要電子束或者深紫外。我們傾向於兩條走路:電子束刻機用於掩模版製造和量高度晶片,深紫外刻機用於批次生產。電子束這邊,已經做出原理樣機了。深紫外這邊,正在攻關248奈米準分子雷。”

他頓了頓,又補了一句。

“0.8微米刻機,目標是1973年之前拿出樣機。”

設計組,宋教授走上講臺,手裡拿著一塊晶片,在燈下舉起來。

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